商品名稱:?低溫恒溫循環器 低溫恒溫循環器規格：?DHX所屬大類：? 恒溫槽 低溫恒溫循環器適用行業：行業通用? 產品簡介:●風冷式高效全封閉制冷壓縮機,降溫速度快。?●微機智能控制,溫度精確溫度。?●數顯分辨率0.1℃或0.01℃，具有溫度測量值偏差修正功能。?●溫度超溫保護,自動切斷電源并報警。?●制冷系統過熱、過流自動保護。?

型號 溫度范圍
（℃） 數顯分辨率（℃） 溫度波動度
（℃） 槽容積
（L） 循環泵流量（L/min）
SL-DHX-08 0~105 0．01 ±0．05 8 16
SL-DHX-010 10 18
SL-DHX-015 15 16
SL-DHX-020 20 16
SL-DHX-030 30 16
SL-DHX-0508 -5~105 0．01 ±0．05 8 16
SL-DHX-0510 10 18
SL-DHX-0515 15 16
SL-DHX-0520 20 16
SL-DHX-0530 30 16
SL-DHX-1008 -10~105 0．01 ±0．05 8 16
SL-DHX-1010 10 18
SL-DHX-1015 15 16
SL-DHX-1020 20 16
SL-DHX-1030 30 16
SL-DHX-1508 -15~105 0．01 ±0．05 8 16
SL-DHX-2008 -20~105 0．01 ±0．05 8 16
SL-DHX-2010 10 18
SL-DHX-2015 15 16
SL-DHX-2020 20 16
SL-DHX-2030 30 16
SL-DHX-3008 -30~105 0．01 ±0．1 8 16
SL-DHX-3010 10 18
SL-DHX-3015 15 16
SL-DHX-4008 -40~105 0．1 ±0．1 8 16
   SL-DHX-4015 15 16
注意特點：
  低溫恒溫循環器，又稱低溫恒溫浴槽，是自帶制冷和加熱的高精度恒溫源，兼具小型冷水機的功能。廣泛應用于石油、化工、冶金、醫藥、生化、物性，測試及化學分析等研究部門、高等院校、工廠實驗室及計量質檢部門。根據槽開口尺寸的不同，可在浴槽內進行恒溫實驗，亦可通過軟管與其他設備相連接，與恒溫源配套使用。內循環：通過泵對槽內液體介質的循環吞吐，增加槽內溫度的均勻性，減少溫度波動。外循環：通過泵的循環能力，利用出水口將保溫軟管與外部設備連接，形成封閉回路，流回設備進水口，是將槽內恒溫介質外引，建立外部恒溫場。循環水恒溫的應用領域： 
  生化領域：旋轉蒸發儀、阿貝折光儀、旋光儀、原子吸收、ICP-MS 、ICP、核磁共振、CCD、生物發酵罐、化學反應器（合成器）等。材料領域：電鏡、X射線衍射、X熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機、ICP刻蝕、各種半導體設備、疲勞試驗機、化學沉積系統、原子沉積系統等。醫療領域：超導磁共振、直線加速器、CT、低磁場核磁共振、X光機、微波治療機、醫用冷帽、降溫毯等等。物化領域：激光器、磁場、各種分子泵、擴散泵、離子泵以及包括材料領域。使用的各種需水冷設備。 
產品特點： 
節約能源——在夏季和高環境溫度下，冷卻水可在系統回路中循環使用，節約大量的水資源。
效率更高——一臺循環水設備可同時滿足多臺外部設備的冷卻需求，持續提供低溫恒溫水源，適用于冷凝實驗。 
控溫精度——PID控溫技術，內置PT100傳感器、控溫精度高，溫度數字顯示，操作直觀 
安全性高――具有自我診斷功能；冷凍機過載保護等多種安全保障功能。 
低溫不凍液配比 
A乙二醇水溶液：乙二醇/水 55/45 （－30℃）、70/30 （－40℃） 
B丙三醇水溶液：丙三醇/水 70/30 （－30℃）使用中需經常檢查低溫不凍液的密度使其滿足如下要求：1.乙二醇水溶液：P20=1079㎏/m3 （－30℃）（－40℃）2.丙三醇水溶液：P20=1182.6㎏/m3 （－30℃）不凍液用水代替時，其最低溫度必須在0℃以上。 
冷卻水選型相關：通常，制冷能力在1000W以下機型小型循環水冷卻恒溫器廣泛運用小功率激光器、平行蒸發儀、平行定量濃縮儀、平行反應器、蒸餾儀等實驗室冷凝裝置等。制冷能力在6000W以下中型循環水冷卻恒溫器廣泛應用于AAS、ICP、ICP-MS、電鏡等分析儀器行業，旋轉蒸發儀、索氏提取、固液萃取儀、凱氏定氮儀等實驗室設備，激光打標機、激光切割機等激光儀器及機床行業。制冷能力在10KW以上大型循環水冷卻恒溫器廣泛應用于X－衍射儀、磁質譜儀、疲勞試驗機、真空鍍膜機、塑料成形設備、激光切割機、X－熒光光譜儀、紅外光譜儀、差熱分析儀、核磁共振等具有高制冷恒溫要求設備。 
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應用范圍： 
對半導體制造裝置發熱部的冷卻：單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。
對激光裝置發熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發熱部分、激光標志裝置、發生裝置、二氧化碳激光加工機等。