1.工藝特點：

        創新一代超高濃縮合成配方，鍍層填平度高達95%；

        鍍層極為光亮，柔韌性好；

        鍍液分散能力好，填平能力十分優秀；

        鍍層沒有針孔，具有良好的耐蝕性能；

        鍍液穩定，容易操作控制，維護成本低；

        填平能力好酸銅添加劑適用于鋼鐵件、鋅合金壓鑄件、以及塑料件的電鍍中，經過必要的前處理后（例如鍍堿銅），作為經濟實用的光亮中間鍍層。

2.鍍液組成及操作條件：

鍍液組成及工藝條件             適用范圍         一般開缸用量

硫酸銅                     180－220克/升           200克/升

純硫酸                         30－40克/升           33毫升/升

氯離子                     70－140毫克/升         100毫克/升

開缸劑810Mu                     6－8毫升/升           6毫升/升

主光劑810A                   0.4－0.6毫升/升         0.5毫升/升

主光劑810B                   0.3－0.5毫升/升         0.3毫升/升

溫度                               20－35℃         24－28℃

陰極電流密度               1－6安培/平方分米     3－5安培/平方分米

陽極電流密度             0.5－2.5安培/平方分米     0.5－2.5安培/平方分米

陽極                 磷銅角（0.03-0.06%磷）       磷銅角（0.03－0.06%磷）

電壓                             1.5－6伏（V）       1.5－6伏（V）

攪拌方法                       空氣或機械攪拌         空氣或機械攪拌

3.鍍液配制方法：

        在預備槽中加入二分之一的水，加熱至40－50℃；所用水的氯離子含量應低于70毫克/升，加入所需的硫酸銅，攪拌使其完全溶解。

        加入2.0克/升的活性碳，攪拌一個小時以上，然后用過濾泵將鍍液濾入清潔的電鍍槽中，加水至接近水位。

        慢慢加入所需的純硫酸，同時進行強烈的攪拌，以保持鍍液的溫度不超過60℃。

        將鍍液冷卻至25℃后；再根據鍍液中氯離子的含量，添加鹽酸或氯化鈉，以使氯離子的含量達到標準值。

        最后加入以上的各種添加劑，以0.5安培/平方分米的電流電解大約2小時，便可以開始電鍍。

4.設備要求：

        鍍        槽：        內襯聚氯乙烯或其它各種塑料的鋼槽或者塑料槽。

        冷卻設備：        鍍液溫度過高，不但會使光亮劑的消耗量增大，還會導致低電位區的光亮度降低；所以配備合適的冷卻設備是十分必要的。

        循環過濾：        鍍液中的浮游物如灰塵、油脂等均會導致鍍層粗糙、產生針孔或降低光亮度；鍍液最好采用連續性循環過濾，過濾泵最少在一小時內將鍍液過濾四次。

5.添加劑的作用及補充：

開缸劑810Mu：              開缸劑不足時，會在高、中電位區出現疏松的條紋狀鍍層；開缸劑過量時，低電區會產生霧狀鍍層。

主光劑810A：                A含量過低時，整個電流密度區的鍍層填平度下降；A過量時，低電位區的填平度會突然變差，形成明顯的分界。

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