KH2200離子刻蝕機(jī)是全自動(dòng)的晶體系和振蕩器頻率微調(diào)系統(tǒng)。晶體使用載盤裝載，然后自動(dòng)傳送到真空室，晶體頻率通過離子刻蝕系統(tǒng)進(jìn)行調(diào)整，可同時(shí)調(diào)整360個(gè)或384個(gè)晶體。

 測(cè)試系統(tǒng)使用KH1800網(wǎng)絡(luò)分板儀，頻率范圍1-120Mhz.或使用1820網(wǎng)絡(luò)分析儀，頻率范圍20KHz-400KHz及500KHz-240Mhz.使用PI網(wǎng)絡(luò)測(cè)試頭，高激勵(lì)清洗機(jī)功能可選，以提升晶體的電性能及老化特性。

KH2200采用陽(yáng)極層離子源，其性能優(yōu)良并便于維修。超寬的刻蝕區(qū)域允許更多的晶體同時(shí)微調(diào)。

刻蝕完成后，系統(tǒng)將依照設(shè)備的QC范圍自動(dòng)進(jìn)行檢測(cè)，不良品將高亮顯示以便于使用者分選。