光電子能譜儀供應商|專業供應光電子能譜儀|禹重供 1. 綜述 Ulvac-Phi是超高真空表面分析儀器供應商。Ulvac-Phi創新的XPS、AES和SIMS技術，提供客戶以獨有的工具來解決具挑戰性的器材問題，從而令客戶加快發展新產品和及新技術。作為提供全方位（面）的高性能XPS、AES和SIMS表面分析儀器的唯一供應商，向廣泛高科技領域上的潛在客戶（包括納米技術、微電子技術、存儲介質、催化、生物材料、藥品 基本材料如金屬、礦物、聚合物、復合材料和涂料）提供完整的表面分析解決方案上，Ulvac-Phi具有獨特的地位。 X 射線光電子能譜（XPS）是材料科學和發展的領域中最廣泛使用的表面分析技術。其原理是利用X射線束（一般會使鋁陽極或鎂陽極）作為入射源，照射在樣品表面導致讓光電子從原子的核心層被激發出。根據測得的光電子所發出的電子動能，再依照能量守恒定律就可以知道電子的結合能，從而也就可知道樣品表面是何物質。 The PHI 5000 Versaprobe II (VP-II) 能提供高性能的微區光譜，化學成像，二次電子成像，其最小的X射線束光柵掃描直徑約為10微米。X射線束的大小可以輕易的使用電腦控制在直徑10微米到400微米設定，從而達到最好的空間解釋度與最高的靈敏度。VP-II 可以輕易的對不管是導體或非導體獲取化學態的成像 或是離子濺射的深度分析，樣品例子如催化劑，金屬和電子設備，玻璃和聚合物，甚至是生物材料和組織等等。 VP-II 維持了PHI 5000 Versaprobe的核心能力，包括掃描和聚焦 X 射線，專利的離子與電子雙中和系統，以及可以在極低電壓也可工作的高效能離子槍；另有可選項配置C60離子槍，提供了許多有機材料獨特而強大的濺射深度剖析能力；另外，一個完全自動化的五軸樣品操盤促進多個樣品的自動分析并提供Zalar旋轉“Zalar RotationTM”的能力，可配合氬氣離子束或可選項配置的C60來進行濺射深度剖析。最后，全新的操作界面SMARTSOFT-XPS，提供多技術儀器控制一個易于使用的平臺。在數據解釋和操縱總結中，對VP-II 的性能有著明顯的提高。 2. 特點最小的X射線束：X射線源的產生，是經由使用一個聚焦的電子束掃描在鋁陽極時，此產生的掃描X射線后再經由一石英晶體的單色器聚焦并反射樣品表面。VP-II 所取得的最小X-ray探頭尺寸是10um，當中完全不需要使用有任何風格的孔徑，就可以以計算機控制X射線的大小。以下圖片顯示VP-II 上X射線束的聚焦和掃描性能。精準的樣品分析區域：以類似SEM功能的SXI 圖像， 可以實時的顯示樣品的表面形貌。 用戶可以很方便地導航SXI圖像，然后很容易地以選擇分析來定義分析的區域。即使在正常的照片圖像中看不見的特征，從SXI 圖像就或許可以很容易地被發現和定位。(以下圖四作出共中實例) 最高的靈敏度與最小的X-ray束斑：PHI VersaProbe II是由獲得專利的高通量X射線源來提供一個聚焦的X射線束，可根據樣品表面掃描。 VP-II 多功能的技術平臺：根據研發的需要，以下是 VP-II 的可選項配備 - 10keV的C60離子槍 - 雙陽極，非單色X射線源 - 紫外線光源 - 95毫米的樣品處理 - 熱/冷樣品處理 - 可選的AES電子槍 - 真空轉移平臺 (Vacuum Transfer Vessel) 3. 應用 Ulvac-Phi VP-II在納米技術、微電子技術、存儲介質、催化、生物材料、藥品、基本材料如金屬、礦物、聚合物、復合材料和涂料等方面提供完整的表面分析解決方案包括表面的元素與化學態分析（氫和氦除外）： - 表面物種的化學狀態的識別，包括有機和無機材料，導體和絕緣體。 - 深入薄膜中的組成元素分布概況，包括半導體、薄膜結構，磁介質薄膜，光學鍍膜，裝飾涂料，和耐磨涂層。 - 在必須避免會對電子束技術有破壞性效果時的樣品成分分析。網址：http://www.uzong.cn/instruments/physics/xps/83-versaprobe.html 固定電話：021-54305890 手機：13501754941 Q Q：331412846 400電話：400-808-4598 官網網址：www.uzong.cn