紫外C水消毒系統采用國際上九十年代末先進的現代紫外C消毒技術，以特殊的設計、工藝和材料制造的高教率、高強度、長壽命的紫外C消毒裝置為基礎，利用紫外c所具有的高效、廣譜殺滅能力來殺滅水中的細菌、病毒、寄生蟲、原生動物等，達到水凈化和消毒的目的。紫外C消毒技術具有高效、廣譜、廉價、長壽、無需添加任何物質，不產生任何二次污染的特點，近幾年來以其獨特的優越性在水處理領域倍受青睞，越來越廣泛地應用于改墻水、工農業、食品、制藥行業生產用水、工業回用水及污水等的滅菌消毒處理。目前的污水處理廠的尾水消毒，相當數量采用了冠宇紫外消毒設備進行_消毒處理冠宇紫外線消毒系統工作時，需處理的水按設計要求的流速流過消毒模塊，特制高效紫外燈輻射出強紫外C光線(波長2537nm)。紫外C水消毒效果取決于水中細菌病毒可接受到的紫外劑量(紫外強度和照射時間乘積)。當紫外劑量達到一定時，紫外光能量使水中的細菌、病毒以及其它致病體的DNA內部結構遭到破壞，失去活性而殺滅，水質得到消毒凈化。

2框架式明渠式紫外線消毒模塊系統

系統使用條件
水溫：550；使用環境溫度：一5C50周圍相對濕度：不大于93(溫度25
時)污水：進入消毒設備的污水要求ICM的透射率(T254)：40：其它要求滿足國家城鎮污
水處理廠污染物排放標準GB***中的二級標準。電壓：交流電380VIOV，50Hz

3框架式明渠式紫外線消毒模塊系統

基本組成
GYF開放式紫外C污水消毒系統采用模塊化設計，根據用戶實際需求、水處理量與不同
水質特點等因素選用相應功率和數量的紫外消毒模塊，使用時將紫外消毒模塊置于消毒渠內(見圖1)，外加各種控制模塊即可構成消毒系統使用與維護方便。
NLQ開放式紫外C污水消毒系統由七個部分組成：紫外消毒模塊、空壓機與氣動裝置、安裝與遮光附件、鎮流器電箱、中央控制柜，水位控制裝置。
GYF紫外消毒模塊
GYF紫外消毒模塊以GYF開放式紫外C消毒排架(以下簡稱為排架，見圖2)為基本
單位。排架主要由不銹鋼框架、紫外燈、玻管、清洗架、氣缸、電纜及各種密封件緊同件等.

（3）空壓機與氣動裝置
設備配備有氣動控制柜、空壓機與水霧分離器在氣動控制柜內裝有氣源處理元件和氣動控制元件，氣動裝置的氣管與排架相連，在設定時間對玻管進行自動或手動清洗e
(4)安裝與遮光附件
由安裝梁與遮光板組成，為不銹鋼304材料制成，可組裝成安裝框架，用于放置GYF紫外消毒模塊。
(5)鎮流器電箱
鎮流器電箱主要安裝有給燈管啟動供電的鎮流器，每個鎮流器對應一個燈管。每臺鎮流
器電箱還會配備一臺空調作散熱用。
(6)中央控制
中央控制柜主要由人機界面、PLC、回路控制元器件、數據采集通訊板、數據檢測板等構成。整個系統控制以及數據采集顯示均集成在人機界面上。并可提供擴展模塊，實現遠程智能控制。
(7)水位控制裝置
水位控制裝置主要的功能是確保水位漫過排架第一支燈管，且漫過的水位不得超過第一支燈管6cm。確保最佳的消毒效果。目前采用的水位控制裝置主要包括固定式溢流堰、電動溢流堰門、拍門等。