深圳眾誠達應用材料科技有限公司生產銷售靶材。ITO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶，、二氧化鉿靶，二硼化鈦靶，二硼化鋯靶，三氧化鎢靶，三氧化二鋁靶五氧化二鉭，五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅靶、氮化鋁靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化鈦靶，碳化硅靶，鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶、濺射靶材等。

深圳眾誠達應用材料科技有限公司生產銷售磁控濺射用的靶材，EMI濺射鍍膜具有以下特點：

價格低（國內擁有自主知識產權的話）。

真空濺射加工的金屬薄膜厚度只有0.5～2μm，絕對不影響裝配。

真空濺射是徹底的環(huán)保制程，絕對環(huán)保無污染。

欲濺射材料無限制， 任何常溫固態(tài)導電金屬及有機材料、絕緣材料皆可使用（例：銅、鉻、銀、金、不銹鋼、鋁、氧化矽SiO2等）。

被濺射基材幾無限制（ABS、PC、PP、PS、玻璃、陶瓷、epoxy

    resin等）。

膜質致密均勻、膜厚容易控制。

附著力強（ASTM3599方法測試4B）。

可同時搭配多種不同濺射材料之多層膜。并且，可隨客戶指定變換鍍層次序。