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[供應]光學鏡片清潔超純水設備
- 產品產地：蘇州
- 產品品牌：偉志
- 包裝規格：s14030
- 產品數量：100
- 計量單位：套
- 產品單價：1
- 更新日期：2019-11-09 14:05:22
- 有效期至：2020-11-08
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光學鏡片清潔超純水設備
詳細信息
蘇州鏡片清洗用超純水設備|光學鏡片清潔超純水設備
【邊虹玉17714225379】
一、光學鏡片清洗用超純水設備系統簡介
光學鏡片的清洗主要是指鏡片拋光后殘余拋光液、黏結劑、保護性材料的清洗；鏡片磨邊后磨邊油、玻璃粉的清洗；光學鏡片鍍膜前手指印、口水圈以及各種附著物的清洗。光學鏡片在制作過程中表面會粘付一些溶劑、藥水等需要進行清洗，為了保證鏡面的潔凈度防止烘干后產生水痕，需要電導率0.1μs/cm2的超純水進行漂洗。
光學鏡片用超純水設備系統的清洗工藝包括四個流程：洗滌、漂洗、脫水、干燥。
因為洗滌過程分溶劑清洗和水基清洗，所以有不同的工藝：有先進行溶劑清洗、溶劑蒸汽干燥再進行水基清洗；也有先進行溶劑清洗，再用乳化劑溶解溶劑，再進行水基清洗的。利用流水將洗滌后鏡片表面的洗劑和污物溶解、排除的過程稱為漂洗。
影響漂洗效果的因素有以下幾個：
洗劑的漂清性能，漂洗水的純度、溫度以及流動性等。一般在常溫下，電導率為0.1μs/cm2的超純水可以保證漂洗的要求。
經過漂洗后的光學鏡片表面的潔凈度應和漂洗水潔凈
光學鏡片清洗用超純水設備系統常用的處理工藝為反滲透＋混合離子交換法，或更為先進的反滲透+EDI（電去離子法）使產品水水質能達到0.1μs/cm２，相比之下，后者成本相對高些。
反滲透+混床高純水系統的產水電阻率達到1-15兆姆25℃，采用雙極混床可達電阻率達到15-18兆歐姆25℃，應用領域十分廣泛。
反滲透+混床高純水系統是利用反滲透系統除去水中95-97%以上的離子雜質，再用后級混床精處理，除去水中剩余離子，產水水質電阻率一般達到1-15兆歐姆25℃反滲透與混床的完美結合，有著設備投資省，運行成本低，管理維護方便等特點.反滲透技術是利用壓力差為動力的膜分離過濾技術，源于美國二十世紀六十年代宇航科技的研究，后逐漸轉化為民用，目前已廣泛運用于科研醫藥食品飲料海水淡化等領域。
（RO）反滲透膜孔徑小至納米級，在一定的壓力下，H2O分子可以通過RO膜，而源水中的無機鹽重金屬離子有機物膠體細菌病毒等雜質無法通過RO膜，從而使可以透過的純水和無法透過的濃縮水嚴格區分開來.
混床是混合離子交換柱的簡稱，是針對離子交換技術所設計的設備.所謂混床，就是把一定比例的陽陰離子交換樹脂混合裝填于同一交換裝置中，對流體中的離子進行交換脫除.由于陽樹脂的比重比陰樹脂大，所以在混床內陰樹脂在上陽樹脂在下.一般陽陰樹脂裝填的比例為1：2，也有裝填比例為1：1.5的，可按不同樹脂酌情考慮選擇.混床也分為體內同步再生式混床和體外再生式混床.同步再生式混床在運行及整個再生過程均在混床內進行，再生時樹脂不移出設備以外，
且陽陰樹脂同時再生，因此所需附屬設備少，操作簡便，具有以下優點：
(1)出水水質優良，出水pH值接近中性.
(2)出水水質穩定，短時間運行條件變化如進水水質或組分、運行流速等對混床出水水質影響不大.
(3)間斷運行對出水水質的影響小，恢復到停運前水質所需的時間比較短.
二、光學鏡片超純水設備系統工藝流程
反滲透設備+EDI制取鏡片清洗用超純水
采用反滲透水處理設備與電去離子（EDI）設備進行搭配的的方式，這是一種制取高純水的最新工藝，也是一種環保，經濟，發展潛力巨大的高純水制備工藝，其基本工藝流程為：
原水箱→石英砂過濾器→活性炭過濾器→軟水器-精密過濾器→反滲透設備→純水箱→電去離子（EDI）→超純水箱
這種方法用來制取超純水的工藝，不需要用酸堿進行再生便可連續制取超純水，對環境沒什么破壞性。
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