全譜直讀光譜儀廠家CCD光譜儀供應主要技術參數：光學系統：帕型）-龍格羅蘭圓全譜真空型光學系統；波長范圍：130~800nm焦距：400mm探測器：高性能CCD陣列光源類型：數字光源，高能預燃技術（HEPS）放電頻率：100-1000Hz放電電流：最大400A工作電源：220VAC50/60Hz儀器尺寸：720*860*500儀器重量：約100kg（不含真空系統）檢測時間：依據樣品類型而定，一般25S左右電極：鎢材噴射電極分析間隙：真空軟件自動控制、監測儀器關鍵特點描述:全譜直讀光譜儀采用國際標準的設計和制造工藝技術，采用全數字化技術，替代龐大的光電倍增管（ＰＭＴ）模擬技術，與國際光譜儀技術同步，采用真空光室設計及全數字激發光源、領先的ＣＣＤ檢測器、高速數據讀出系統，使儀器具有極高的性能、極低檢出線、長期的穩定性和重復性。應用領域：冶金、鑄造、機械、科研、商檢、汽車、石化、造船、電力、航空、核電、金屬和有色冶煉、加工和回收工業中的各種分析。檢測基體：鐵基、銅基、鋁基、鎳基、鈷基、鎂基、鈦基、鋅基、鉛基、錫基、銀基。技術特點：1、高性能光學系統《1光學系統激發時產生的弧焰由透鏡直接導入真空光學室，實現光路直通，有效的降低光路損耗；《2》高性能光學系統設計及采用高精度的光學元件可精確測定非金屬元素中C、P、S、N以及各種元素含量；《3》測定結果精準，重現及長期穩定性極佳。2、自動光路校準：（《1》自動光路校準，光學系統自動進行譜線掃描，確保接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作；《2》儀器自動識別特定譜線與原存儲線進行對比，確定漂移位置，找出分析線當前的像素位置進行測定。3、單板式透鏡設計：《1》真空光學系統采用獨特的入射窗與真空隔離，可在真空系統工作狀態下進行操作，光學透鏡采用單板式透鏡結構，日常清洗維護方便快捷。《2》在日常工作中儀器無需維護，也沒有消耗品及更換零部件。4、真空室一體化：（《1》獨特的光室結構設計，使真空室容積更小，抽真空速度不到普通光譜儀的一半。《2》真空室一體化設計及高精密的加工，使真空保持的更加持久。5、真空防返油技術：《1》多級隔離的真空防返油技術，采用真空壓緊、擋板閥保證真空泵不工作時間真空光室與真空完全隔離。《2》中間增加了真空濾油裝置，確保真空泵中油不進入真空室，保障CCD檢測器及光學元件在可靠環境中工作。6、開放式激發臺：《1》開放式激發臺機靈活的樣品夾設計，以滿足客戶現場的各種形狀大小的樣品分析。《2》配合使用小樣品夾具，線材最低分析可達到1.5mm。7、噴射電極技術：《1》采用國際最先進的噴射電極技術，使用鎢材料電極，在激發狀態下，電極周圍會形成氬氣噴射氣流，這樣在激發過程中激發點周圍不會與外界空氣接觸，提高激發精度。《2》配上獨特氬氣氣路設計，大大降低了氬氣使用量，也降低客戶使用成本。8、集成氣路模塊：《1》激發臺采用散熱性能好的合金材料制作，不僅堅固、耐用而且清潔方便。《2》供氣系統采用集成氣路模塊，電極自吹掃功能，為激發創造了良好的環境。9、全數字化激發光源：《1》全數字激發光源，采用國際最為先進的等離子激發光源，超穩定能量釋放在氬氣環境中激發樣品。《2》全數字激發脈沖，確保激發樣品等離子體超高分辨率和高穩定率輸出。《3》滿足各種不同材料的激發要求。10、高速數據采集：《1》儀器采用高性能CCD器件，紫外鍍膜技術及高性能FPGA、ＤＳＰ及ＡＲＭ處理器。《２》具有超高速數據采集分析功能，并能自動實時監測控制光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發室等模塊的運行狀態。11、以太數據傳輸：《１》計算機和光譜儀之間使用以太網卡和TCP/IP協議，避免電磁干擾，光纖老化的弊端，同時計算機和打印機完全外置，方便升級和更換。《2》完備的網絡系統。《3》可以遠程監控儀器狀態，多通路操控系統控制和監控所有的儀器參數。12、預制工作曲線：《1》根據元素和材質對應的分析程序而稍有差異，激發和測試參數儀器出廠時已經調節好，根據分析程序可自動選擇最優測試條件。《2》長期以來工廠積累了大量的經驗以及全面的國際標樣庫，儀器出廠時工廠預制工作曲線，使用戶拿到儀器后可投入使用。《3》技術規格中第四分析儀器___全譜直讀光譜儀廠家CCD光譜儀供應