國內真正通過美國國防部MIL8625認證陽極氧化廠家
硬質陽極氧化當鋁及鋁合金浸入電解液中，作陽極進行通電處理，即可在其表面上形成氧化皮膜（Al2O3）層這過程稱為陽極氧化處理，過程中鋁及其合金作為陽極，而電解液作為陰極只起導電和釋氫作用，氧化膜的成長過程包含兩個相輔相成的原理：一是膜的電化學生成過程，二是膜的化學溶解速率過程，兩者缺一不可，并且膜的成長生成速率必須大于膜的溶解速率，才能獲得足夠厚度的氧化膜。
1.特性：硬質氧化是一種電化學處理方式，是純鋁或鋁合金材料上形成一極硬、耐高溫、耐磨、有高電阻性、耐腐蝕的硬氧化膜。膜層厚度Thickness可達200um，外觀呈灰、褐色成灰深灰色（視材料而定）此一極高之表面硬度，配合鋁合金本身輕、機械加工容易、低成本的特性，廣泛應用于各種工業及軍事用途上，此值得我國工業升級之際，更是精密工業不可或缺的一環。
2.硬度Hardness：指膜層之硬度，膜層厚度（Thickness）指Build up和Penetrating兩部份。T＝1/2Build up1/2penetrating。硬度之最低標準為B.S.5599規定HRC36以上（約HV350）接近材料部分可超過HRC60（HV700）以上。
3.耐磨性Adrasion-resistance：以Tabes Abraser CS-171000g負載，鋁合金硬化處理之耐磨性遠優于硬鉻電鍍及其它之硬化鋼。
4.尺寸精確：膜層厚度一般為50±5um，元件單面尺寸約增加25um，對于較精細公差及特殊厚度要求，需于圖面上特別注明。
5.抗蝕性：經封孔，鹽霧試驗（ASTM117規格）超過5000小時無腐蝕現象發生。
6.合金材料適合性：適用于所有鋁合金，包括1000純鋁（1050、1100）、2000鋁銅系（2014）、3000鋁錳系、5000鋁鎂系。6000鋁鎂矽系（6061、6063）7000鋁鋅系（7050）及鑄造鋁合金514.2、A514.2、518.2、ADC.5ADC.6等。
7.耐電壓（Breakdown Voltage）:達1500VDC以上。
8.高度電阻性：于20度C為4X10.15？ cm2可作為良好之絕緣體。
9.耐熱性：膜層溶點達攝氏2050度C，短時間可保護鋁材在高溫中免受損害。
10.低摩擦系數：磨光后的表面，摩控系數可低至0.095，因此各種軍械及民用裝備滑軌，均應用此技術。
11.氧化膜的結合力：硬質氧化膜的形式是有一半的膜在鋁的內部一半長出來，與鋁基體金屬的結合力很強，很難用機械方法將它們分離，即使膜層隨基體彎曲直至破裂，膜層與基體金屬保持良好的結合。
12.氧化膜結構的多孔性：氧化膜具有多孔的蜂窩狀結構，可使膜層對各種有機物，樹脂、無機物、染料及油漆等表現出良好的吸附能力，可作為涂鍍層的底層，也可將氧化膜染成各種不同的顏色（硬質氧化膜，只可染黑色）提高金屬的裝飾效果。