產品介紹      真空鍍膜設備主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。產品屬性   需要鍍膜的被成為基片，鍍的材料被成為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。 使用方法   嚴格按照產品說明書操作使用，如出現不能解決的問題及時撥打我們的售后電話故障排除   
   詳細內容請見產品說明書操作使用，如出現不能解決的問題及時撥打我們的售后電話。安裝、維護      

1. 開水泵、氣源   2. 開總電源   3. 開維持泵、真空計電源，真空計檔位置V1位置，等待其值小于10后，再進入下一步操作。約需5分鐘。  離子鍍膜設備+所鍍產品圖
  4. 開機械泵、予抽，開渦輪分子泵電源、啟動，真空計開關換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。   5. 觀察渦輪分子泵讀數到達250以后，關予抽，開前機和高閥繼續抽真空，抽真空到達一定程度后才能開右邊的高真空表頭，觀察真空度。真空到達2×10-3以后才能開電子槍電源注意事項   1真空鍍膜設備每完成200個鍍膜程序以上，應清潔工作室一次。

2當粗抽泵（滑閥泵，旋片泵）連續工作一個月（雨季減半），需更換新油。
3、擴散泵連續使用6個月以上，抽速明顯變慢，或操作失當，充入大氣，拆去聯結水管，卸下電爐盤，將一級噴嘴擰出，先用汽油將泵腔及泵膽清洗一遍，再用洗衣粉兌水清洗一遍，然后用清水徹底清洗干凈，待水份揮發干以后，裝好泵膽，加入新擴散泵油，并裝回機體，接好水管，裝好電爐盤，便可以重新開機。其他說明  蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結構-迷走結構-層狀生長）形成薄膜。 對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且最終沉積在基片表面，經歷成膜過  蒸發鍍膜設備+所鍍產品圖
程，最終形成薄膜。交易說明  歡迎廣大客戶來廠、參觀選購