巖征儀器硅片紫外臭氧清洗機是一種干式清洗，不需要任何的溶劑，是非常高效的精密清洗方式，同時對清洗表面沒有損傷。紫外臭氧清洗技術作為硅片清洗，TFT玻璃基等清洗應用，也是表面改性的一種非常重要的技術。
巖征儀器硅片紫外臭氧清洗機光清洗過程提供一種簡單，經濟，快速獲得超潔凈的表面，去除大多數無機基材（比如石英，硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁*等）上的有機污染物。特別是當基材和薄膜蒸鍍需要很好的粘接時，紫外清洗非常理想。獲得超潔凈的表面，只需要在傳統清洗后，再用紫外臭氧清洗過程幾分鐘就可以達到專業級的清潔效果。   巖征儀器硅片紫外臭氧清洗機可以去除：皮膚油脂，有機硅油和油脂，助焊劑，殘留的光刻膠，膠水溶劑，碳等。怎樣說是“超”潔凈？    接觸角測量方法4－5度。適用AES和ESCA測量細微的峰值。使用蒸汽測試，在冷凝和蒸發時形成一致的彩虹裝的條紋。通常情況下，使用清洗或是超聲清洗工序后，清潔關鍵表面認為完成。紫外臭氧清洗提供一種新的清洗尺度。在傳統清洗工序后加入紫外清洗的應用，產品的性能和可靠性的提升不斷的證明這種新的清洗尺度的價值。   巖征儀器硅片紫外臭氧清洗機工作原理：是低壓石英汞燈，產生254和185nm范圍的紫外線。臭氧和等離子氧氣產生，有機污染物分子在吸收254nm波長紫外線后被激發或分解。激發的有機污染物可以和等離子氧原子反應形成氣體，比如CO2,H2O等。整個過程在室溫發生，并且只需要1到幾分鐘完成。 巖征儀器硅片紫外臭氧清洗機關鍵特性:    ?間歇式燈泡工作方式。    ?滑行部件托盤－光滑－低震動，滾珠軸承系統－高度到1.5英寸。     ?堅固耐用，全部不銹鋼結構     ?長壽命。低壓石英水銀蒸汽燈發射254nm和185nm UV，促進快速氧化，去除微量的有機殘留物。     ?全面UV保護讓設備操作更安全。    ?更低設備采購成本和操作成本。     ?0-999秒/分鐘/小時定時器，能夠精確控制。    ?UV "ON"指示燈和可見窗口。     ?操作簡單：設定定時器，打開門，抽出托盤，將元件放在托盤上。將托盤滑入并關閉門。在清洗操作過程結束有蜂鳴聲。打開門，移開全部的清洗元件。
巖征儀器硅片紫外臭氧清洗機典型應用包括：
    ?表面的原子級清洗   ?聚合物粘接  ?去除有機分子  ?釋放捕獲的無機分子  ?微流控制作  ?微米/納米構型  ?紫外光固化  ?表面化學改性  ?表面殺菌  ?表面氧化  ?金屬粘結準備

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